Hestia 全自動等離子處理系統(tǒng)
JET Plasma的Hestia系統(tǒng)是針對微電子封裝行業(yè)設計的一款自動化等離子處理系統(tǒng)，可根據(jù)需要配置為自動系統(tǒng)（Automation）或在線式系統(tǒng)（in-line）。Hestia系統(tǒng)設置精密而耐用，易于維護保養(yǎng)。整個系統(tǒng)最大幅度減少了處理過程中的人為接觸，避免了人為接觸造成的污染以及倒料過程造成的物料損壞以及混料等。
產品詳情
JET Plasma的Hestia系統(tǒng)是針對微電子封裝行業(yè)設計的一款自動化等離子處理系統(tǒng)，可根據(jù)需要配置為自動系統(tǒng)（Automation）或在線式系統(tǒng)（in-line）。Hestia系統(tǒng)設置精密而耐用，易于維護保養(yǎng)。整個系統(tǒng)最大幅度減少了處理過程中的人為接觸，避免了人為接觸造成的污染以及倒料過程造成的物料損壞以及混料等。
應用領域：
● 光刻膠去除：去除光刻顯影后的光刻膠殘留，修飾側壁。
● 表面粗化與微刻蝕：粗化材料表面，減少表面應力，增加與其它材料的結合能力。
● 金屬鍵合前處理：去除金屬焊盤上的污染物，提升金屬焊接的強度與良率。
● 底部填充前處理： 去除表面外來污染物，提升表面能。清潔的表面可以提升底部填充過程中膠體的流動性，減少填充后的空洞等不良。
● 塑封前處理：去除表面納米級污染物殘留，進行表面微粗化并提升表面能,使芯片表面與塑封料牢固結合,減少分層與氣泡等不良的產生。
工藝腔體與系統(tǒng)總覽
設備尺寸與參數(shù)
Hestia - Features
腔體特征：
● 工藝腔體可以配置為功率電極基底–以獲得更強的處理效果/或地電極基底-以獲得更好的處理均勻性
● 專利的進/排氣結構確保了工藝腔體內優(yōu)異的處理均勻性（腔體內處理均勻性可達<10%，光刻膠coupon9點法測量)● 緊湊的腔體結構可節(jié)省占地空間，且堅固耐用
工藝周期：
● 物料傳輸時，限位傳感器可監(jiān)控傳輸物料（基板與引線框架等）過程，發(fā)生位置偏移時及時報警。
●工藝過程中的參數(shù)（如:射頻能量、氣體流量、腔體壓力等）均通過軟件實時監(jiān)測，一旦超出報警閾值將及時報警，確保工藝過程的穩(wěn)定。
●系統(tǒng)生產過程的穩(wěn)定性高，可重復性高。
系統(tǒng)特征：
● 引線框架或基板通過傳送系統(tǒng)輸運到腔體中進行處理，整個過程避免了人為接觸。
● Hestia 的專用控制軟件由JET Plasma自行開發(fā)，通過PLC與工控機共同控制。確保了系統(tǒng)穩(wěn)定運行的同時，具備強大工藝程序編輯與工藝數(shù)據(jù)存儲能力。
● 專業(yè)可靠的設計確保系統(tǒng)耐用且易于保養(yǎng)。
處理效果：
● 均勻的等離子處理可以有效去除基板表面的外來污染物和金屬氧化層等污染，提升鍵合或塑封良率
● 等離子處理后料條的中心與邊緣活化效果保持高度一致(適當?shù)墓に嚳蓪⑻幚砗蟮乃谓欠€(wěn)定控制在10~30°的范圍)
● 多個工藝周期之間的工藝效果具有極高的可重復性(以去膠速率測試，Repeatability <5%
Hestia-Software
廠務需求
Product Line：
